该厂为85英寸晶圆生产制造线配套方案的超注射用水整体，整天出现含硅电镀废水150吨。电镀废底层的水中虽无天价属，但硅含量高易积灰，且电容率需达成18MΩ·cm方可工業废水处理。原来处工院艺是无法够满足新制定的《电子技术工業水废弃物物排出原则》（GB39731-2020）很排出允许值。 工业废水因素优点和缺点 首要的工业废气 ：固体硅（200-300mg/L）、粒子硅（颗粒直径0.1-1μm） 特有的标准 ：TOC<10μg/L，硼含氧量<5μg/L 水体质量特点 ：低水的电导率（<50μS/cm）但硅有机物价值形式麻烦 加工加工方案 去创新适用"梯级膜破乳+电去亚铁离子"三人组合工艺设计： 微滤规范化处理这一方面 ：1μm瓷质膜拦阻大颗粒物硅，通量维系80LMH 阴阳离子互转树脂胶 ：D201大孔环氧树脂采用性吸附剂硅酸氧分子 二次RO设计 ：首先段再利用率60%，第2段选取高脱硼膜元器件封装 EDI电去阴阳离子 ：功率强度2A/m²，长期清除残渣铁离子 UV紫外线消毒杀菌 ：254nm红外光谱线含水量40mJ/cm² 新技术亮点纷呈 发掘使用阻硅剂（充分胺类黏结物），减缓膜水污染时期3倍 EDI模块电源转型升级流道方案，硅快速清理率改善至99.8% 再线硅分享仪（测试範圍0.1-500μg/L）满足有目的把控 运营取得成效 经第二方验测： 总硅从280mg/L降落到0.05mg/L 硼含量的从8μg/L减少为0.3μg/L 程序回收并率从原40%升级至68% 膜修改频次延长至至5年，年运作代价调低35%