某光电器件营造品牌因晶圆清晰流程所产生含氨化工废水，的水量200吨/天。化工废水底除挥发酚外还包含有氟化物和少量血本属，正确处理难易大。当地的废气排放标规范要求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理工艺材料及源于 晶圆的清洗工业废水（重要由来）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工艺废水处理方法：含进样器铜、镍等巨资属，pH值上下波动大 CMP精磨化工废水：含硅小粒及挥发酚 除理工艺设计操作流程 适用"药剂学积淀+膜分开+折点氯化"女子组合技艺： 预净化处理 ：加药系统CaCl2除氟，控住pH在7.5-8. 反渗透装置机系统 ：清掉0.01μm不低于污染物物 反进行渗透精炼 ：将高锰酸盐指数溶缩至1000mg/L超过 折点氯化 ：准确度操作氯加药系统量，将挥发酚导出为氦气 正离子传递 ：保证高价属不合格 不可能效果好 高锰酸盐指数保持稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属占比如果低于检则限 水中水回用率达75% 污泥处理会产生量以减少40%