佛山某半导体材料IC芯片制作业厂，晶圆制作加工过程中中生成含硅、氟的特异生活污水，设计的概念除理面积1200吨/日。生活污水组分繁复，富含納米级硅粉末及氢氧化钠，传统文化除理手段得以考核标准。 废气成份及原因 主要污染破坏物 ：胶体溶液硅（100-500nm粒度）、氟阴阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 的来源制作工序 ：晶圆刻蚀污焦化废水 （45%）、CMP生物机制抛光处理污焦化废水 （40%）、环保设备清洗水（15%） 解决技术工艺 科学创新进行"化工结晶+特类膜分離"工艺路线地图： 钙盐悠长岁月中 ：加药系统氯化钙取除氟化合物（形成CaF2石雕文化沉淀） 斜板沉淀池发生反应 ：结合斜管沉淀池剂达成氢氧化铁硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔直径膜截流微细颗粒剂 反渗机系统 ：脱盐率>98%，收售率75% 化掉心得 ：浓水段构建氟化物零尾气排放 然后疗效 氟化物酸度：<8mg/L（高出国家地区考试内容一级标淮10mg/L） 硅含氧量：<5mg/L 水材料回收利用率：70%在闭式冷却水塔塔保湿补水 危险废物回收利用：蒸发掉碎渣量较传统艺术技艺以减少60%